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江苏格维环境工程有限公司

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坤诺
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PhotoSHIELD™

PhotoSHIELD:

龙囊式过滤器是设计在使用时(POU)满足苛刻的感光胶和辅助化学应用要求的高度保持薄膜过滤器。利用CUNO公司注册的APT™打褶工艺, PhotoSHIELD 把卓越的流动特点与最低限度的压降结合起来,从而维持过滤效率。减少处理时间降低过滤总费用 – 如:减少能量消耗、泵损坏速度、和人力。

特 征:

先进的APT™打褶工艺

自然亲水性尼龙6,6薄膜

极低的滤芯可析出物

优 点:

提供低的起始压差,延长过滤寿命

延长使用寿命和增大流通量,减少客户成本

优异的微生物截留能力

无须IPA预先湿润及系统冲洗

无须IPA预先湿润从而减少气泡形成的可能性

减少停产时间,提高系统使用效率

可替代UPE或PTFE

保持感光速度、粘度和分子量,不像有些过滤原料一样,会析出离子和有机污染物

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